氣體滅火在我國(guó)始于80年代，盛于90年代，新型滅火方式和滅火劑在應(yīng)用過程中經(jīng)歷了許多變化，在火險(xiǎn)隱患、火災(zāi)撲救、環(huán)境保護(hù)、經(jīng)濟(jì)實(shí)用等諸多因素中選擇一種滿意的消防設(shè)防方案，常常十分復(fù)雜。本文就此作一些討論，僅供同仁參考 查看詳情

從日本半導(dǎo)體制程潔凈及蝕刻用氣體之現(xiàn)況反觀國(guó)內(nèi)之發(fā)展NF3在執(zhí)行CVD腔體潔凈(ChamberCleaning)扮演重要的角色，清潔效率極高，近年來受到「京都議定書」對(duì)全氟化物PFC（PerfluorinatedComp... 查看詳情

目前太陽電池用硅材料大多來自半導(dǎo)體硅材料的外品和單晶硅的頭尾料,不能滿足光伏工業(yè)發(fā)展的需要。同時(shí)硅材料正是構(gòu)成晶體硅太陽電池組件成本中很難降低的部分,因此為了適應(yīng)太陽電池高效率、低成本、大規(guī)模生產(chǎn)發(fā)展的需要,最有效的辦法... 查看詳情

介紹了年產(chǎn)300萬硅拋光片、60萬硅外延片，主要生產(chǎn)4~12英寸的硅拋光片以及6~8英寸的硅外延片的微電子工廠的氣體需求。主要有三氯氫硅、氯化氫、磷烷、乙硼烷、氫氣和氮?dú)狻Ｌ胤N氣體存放于進(jìn)口的特氣鋼瓶柜，氯化氫HCl、三... 查看詳情

1. 熔爐：熔爐與分解爐都是由鋁制的，易于熱交換；均可由電或蒸汽加熱。熔爐容量是適用于25kg/h的廠房。熔爐是該廠房最關(guān)鍵的部分，型號(hào)越小更容易控制。A. 熔爐：開始將固體NH4NO3送進(jìn)熔爐，不斷加熱以熔解NH4NO... 查看詳情

標(biāo)準(zhǔn)氣體組份含量的不確定度來源于原料氣體純度的不確定度(組份氣體純度的不確定度以及稀釋氣中I組份含量及其測(cè)定的不確定度)和配制稱量過程的不確定度以及混合氣體在瓶?jī)?nèi)的穩(wěn)定性,均勻性引起的不確定度. 查看詳情

1實(shí)驗(yàn)?zāi)康慕档弯撈砍檎婵仗幚頊囟?，提高鋼瓶抽真空處理效率。（總共用時(shí)6天）2實(shí)驗(yàn)設(shè)備與原料狀態(tài)良好的加熱抽真空裝置1套。36個(gè)40L新鋼瓶(重慶益峰)。5支H2O<3ppm的高純氮?dú)?。?.5天）狀態(tài)良好微量水分儀1臺(tái)。... 查看詳情

2003年廣東省規(guī)模以上石化工業(yè)總產(chǎn)值2045億元，占全省工業(yè)總產(chǎn)值9.5%，占全國(guó)石化工業(yè)總產(chǎn)值10%。主要產(chǎn)品產(chǎn)量:加工原油2060萬噸，汽煤柴三大類成品油1233萬噸，乙烯56萬噸，合成樹脂208萬噸，輪胎647萬... 查看詳情

2006年是“十一五”計(jì)劃的開局年，也是中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)繼續(xù)快速前行的發(fā)展年。2006年蘇州市新成立的集成電路企業(yè)及配套企業(yè)近20家，其中包括三星電子（蘇州）半導(dǎo)體第二工廠、晶方半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司、蘇州震坤科技有... 查看詳情

半導(dǎo)體制程來了解氣體的應(yīng)用，則薄膜制程會(huì)是相當(dāng)大宗的使用部分，薄膜制程依照其成長(zhǎng)方式之不同，可分金屬化濺鍍薄膜、CVD薄膜、磊晶，金屬化濺鍍(物理氣相沈積)主要應(yīng)用在金屬層成長(zhǎng)，如鋁、銅等，其原理是利用氬氣電漿轟擊金屬靶... 查看詳情