電子工業(yè)用氣體國家標(biāo)準(zhǔn)高純氯Cl2 查看詳情

電子工業(yè)用氣體國家標(biāo)準(zhǔn)高純氨NH3 查看詳情

電子工業(yè)用氣體國家標(biāo)準(zhǔn)氮?dú)釴2 查看詳情

電子工業(yè)用氣體國家標(biāo)準(zhǔn)－－三氯化硼B(yǎng)Cl3 查看詳情

2006年是“十一五”計(jì)劃的開局年，也是中國集成電路產(chǎn)業(yè)繼續(xù)快速前行的發(fā)展年。2006年蘇州市新成立的集成電路企業(yè)及配套企業(yè)近20家，其中包括三星電子（蘇州）半導(dǎo)體第二工廠、晶方半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司、蘇州震坤科技有... 查看詳情

本規(guī)范的編寫將適用于集成電路/太陽能芯片生產(chǎn)廠、新型顯示器件廠（TFT/PDP廠,如上海華虹-NEC、德芯電子（昆山）有限公司）高純化學(xué)品配送系統(tǒng)管道的設(shè)計(jì)、施工及驗(yàn)收。主要技術(shù)內(nèi)容包括：高純化學(xué)品（含研磨液）配送系統(tǒng)設(shè)... 查看詳情

本守則旨在就微電子工業(yè)貯存和使用特殊氣體而申領(lǐng)危險(xiǎn)品牌照的事宜提供指引。本守則列明關(guān)于貯存所的坐落地點(diǎn)、設(shè)計(jì)和建造的規(guī)定（例如機(jī)械通風(fēng)系統(tǒng)、氣體偵測系統(tǒng)、滅火系統(tǒng)、電力裝置等），以及發(fā)牌當(dāng)局所訂明須遵守的相關(guān)條文。此外，... 查看詳情

針對鈾樣品在機(jī)械加工過程中殘留的幾種常見冷卻液成分:水、機(jī)油和三乙醇胺,開展了超臨界二氧化碳對鈾樣品的清洗實(shí)驗(yàn),探討了超臨界二氧化碳對鈾樣品表面常見機(jī)械加工殘留物的清洗效果,同時對經(jīng)超臨界二氧化碳浸泡的鈾樣品表面化學(xué)成分... 查看詳情

真空技術(shù)是使氣體壓強(qiáng)低于地面大氣壓強(qiáng)的技術(shù)。真空是指壓力遠(yuǎn)小于101.325千帕（kPa）（即1大氣壓）的稀薄氣體空間。在真空技術(shù)中除國際單位制的壓力單位Pa外，常以托（Torr）作為真空度的單位。1托等于1毫米高的汞柱... 查看詳情

真空技術(shù)是使氣體壓強(qiáng)低于地面大氣壓強(qiáng)的技術(shù)。真空是指壓力遠(yuǎn)小于101.325千帕（kPa）（即1大氣壓）的稀薄氣體空間。在真空技術(shù)中除國際單位制的壓力單位Pa外，常以托（Torr）作為真空度的單位。1托等于1毫米高的汞柱... 查看詳情